Μια μέθοδος για την επίστρωση λειτουργικών μεμβρανών με μηχανή επίστρωσης κενού

Υπάρχουν δύο μέθοδοι για την επίστρωση λειτουργικών φιλμ, τη μέθοδο CVD και τη μέθοδο PVD. Σήμερα, ο συντάκτης θα σας παρουσιάσει τη μέθοδο επικάλυψης λειτουργικών μεμβρανών με μηχανή επίστρωσης κενού, χρησιμοποιώντας επικάλυψη PVD, ελπίζοντας να σας βοηθήσει:
Η μέθοδος PVD χρησιμοποιεί φυσικές μορφές όπως εξάτμιση και ψεκασμό για την απομάκρυνση της πηγής στόχου του υλικού και στη συνέχεια μεταφέρει ενέργεια μέσω κενού ή χώρου κενού για την κατάθεση ιόντων ατμών στην επιφάνεια του υποστρώματος για να σχηματίσει ένα φιλμ ή τμήμα. Μέσω της διαδικασίας αντίδρασης φάσης αερίου, η αντίδραση αερίου φάσης προκαλεί την εξάτμιση και την ψεκασμό των ατόμων μετάλλων, εναποθέτοντας έτσι τις απαιτούμενες ενώσεις στην επιφάνεια του εργαλείου. Η επίστρωση PVD μπορεί να καλύψει το νιτριδίδιο τιτανίου, το ανθρακιτρίδιο τιτανίου, το νιτρίδιο του τιτανίου αλουμινίου και τα διάφορα ανθεκτικά μεταλλικά καρβίδια και τα νιτρίδια.
Οι κοινώς χρησιμοποιούμενες μεθόδους PVD περιλαμβάνουν σήμερα εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων χαμηλής πίεσης (LVEE), εναπόθεση (CAD), εξάτμιση δέσμης (DIM). Η κύρια διαφορά έγκειται στις διαφορετικές μεθόδους εξάτμισης και τις μεθόδους δημιουργίας πλάσματος των κατατεθειμένων υλικών, με αποτέλεσμα διαφορετικές ταχύτητες σχηματισμού φιλμ και ιδιότητες σχηματισμού φιλμ.
Η τεχνολογία PVD χρησιμοποιείται κυρίως για την επιφανειακή επεξεργασία των ολοκληρωμένων εργαλείων καρβιδίου και των εργαλείων χαλύβδινων εργαλείων υψηλής ταχύτητας και έχει χρησιμοποιηθεί ευρέως στη θεραπεία των τρυπανιών καρβιδίου, των κόπιστων φρεζαρίσματος, των αναστολέων, των βρύων, των εργαλείων ειδικού σχήματος, των εργαλείων συγκόλλησης κ.λπ.
Σε σύγκριση με το CVD, η PVD έχει τα ακόλουθα πλεονεκτήματα:
Η θερμοκρασία επίστρωσης (300 ~ 500 βαθμοί) είναι χαμηλότερη από τη θερμοκρασία σκλήρυνσης του χάλυβα εργαλείων υψηλής ταχύτητας, επομένως δεν θα βλάψει τη σκληρότητα και την ακρίβεια των διαστάσεων των εργαλείων εργαλείων υψηλής ταχύτητας και δεν απαιτείται θερμική επεξεργασία μετά την επικάλυψη. Το αποτελεσματικό πάχος της επικάλυψης είναι μόνο μερικά μικρά, έτσι ώστε η αρχική ακρίβεια του εργαλείου να είναι εγγυημένη, η οποία είναι κατάλληλη για εργαλεία με υψηλή ακρίβεια επικάλυψης. Η επικάλυψη έχει υψηλή καθαρότητα, καλή πυκνότητα και η επικάλυψη είναι σταθερά συνδεδεμένη με το υπόστρωμα. Η απόδοση της επικάλυψης δεν επηρεάζεται από το υλικό του υποστρώματος. Η επικάλυψη είναι ομοιόμορφη και δεν υπάρχει πάχυνση ή στρογγυλοποίηση της αιχμής και του τόξου, έτσι ώστε τα πολύπλοκα εργαλεία να μπορούν να επικαλυφθούν ομοιόμορφα. Δεν υπάρχει φάση αποκρουστικής και η επικάλυψη δεν έχει εύθραυστη ρωγμή που προκαλείται από τη διάβρωση του χλωρίου και την παραμόρφωση της θύελλας υδρογόνου με τη μέθοδο CVD. Η επικαλυμμένη λεπίδα έχει υψηλή αντοχή. Η διαδικασία εργασίας είναι καθαρή, χωρίς ρύπανση και χωρίς ρύπανση.
Επί του παρόντος, η τεχνολογία PVD της μηχανής επικάλυψης κενού όχι μόνο βελτιώνει την αντοχή συγκόλλησης μεταξύ της ταινίας και του υλικού βάσης εργαλείων, αλλά και αναπτύσσει τη σύνθεση επικάλυψης από μία μόνο επίστρωση σε μια ποικιλία σύνθετων επικαλύψεων όπως τα TIC, TICN, ZRN, CRN, MOS2, Tiain, Tiaicn, Tin-ain, CN, κλπ. Υπάρχει μια νέα διάσπαση στην ποιότητα των εργαλείων PVD. Αυτή η επικάλυψη μεμβράνης όχι μόνο έχει υψηλή αντοχή συγκόλλησης, σκληρότητα κοντά στο CBN, καλή απόδοση κατά της οξείδωσης, αλλά μπορεί επίσης να ελέγχει αποτελεσματικά το σχήμα και την ακρίβεια της άκρης των εργαλείων ακριβείας, την επεξεργασία υψηλής ακρίβειας και την ακρίβεια επεξεργασίας της δεν είναι χαμηλότερη από αυτή των γυμνών εργαλείων.